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簡(jiǎn)要描述:連續(xù)格氏反應(yīng)裝置CSTR:巖征以自動(dòng)化技術(shù)為核心優(yōu)勢(shì),專注于多通道固定床反應(yīng)器、高通量催化劑評(píng)價(jià)裝置、實(shí)驗(yàn)室反應(yīng)裝置、微型反應(yīng)釜、實(shí)驗(yàn)室高壓反應(yīng)釜、成套連續(xù)反應(yīng)裝置等領(lǐng)域,為化工、科研、環(huán)保、制藥、醫(yī)療多個(gè)行業(yè)客戶提供成套設(shè)備和一體化解決方案。
品牌 | 巖征儀器 | 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
連續(xù)格氏反應(yīng)裝置CSTR
工作時(shí),經(jīng)嚴(yán)格干燥的鹵代烴(如溴苯)與鎂粉 - 懸浮液按 1:1.05 摩爾比連續(xù)注入微通道,在湍流作用下形成微米級(jí)液固混合(比表面積達(dá) 5000m2/m3),于 30-40℃下快速生成格氏試劑(如苯基溴化鎂),停留時(shí)間控制在 10-60 秒。生成的格氏試劑直接進(jìn)入后續(xù)反應(yīng)段與羰基化合物(如苯甲醛)連續(xù)反應(yīng),全程在氮?dú)獗Wo(hù)下進(jìn)行(氧含量 < 5ppm,水含量 < 10ppm),避免試劑分解。相較于間歇反應(yīng),連續(xù)體系的放熱速率可通過通道壁面及時(shí)移除,溫度波動(dòng)小于 ±2℃,杜絕局部過熱引發(fā)的溶劑暴沸。
連續(xù)格氏反應(yīng)裝置CSTR
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